litografia elektronowa

Elektronová litografie nb5

Pokročilý systém pro elektronovou litografii

Systém elektronové litografie nB5 je zařízení generující vzory metodou vektorového skenování pomocí kulatého paprsku. Díky inovativní a moderní optice elektronových paprsků je systém nB5 v kombinaci s automatizací ideálním řešením jak pro výzkum, tak pro výrobu. Systémy elektronové litografie (EBL) od společnosti Nanobeam nabízejí vysoké rozlišení, lze je použít v nejrůznějších procesech a materiálech a vyznačují se vysokou propustností, nízkými provozními náklady a výjimečnou spolehlivostí.

 

KONSTRUKCE ZAŘÍZENÍ – TECHNOLOGIE NOVÉ GENERACE

  • Zjednodušená automatizace a robotika
  • Nejrychlejší systém elektronové litografie na trhu – tvorba 2 milionů bodů za 110 sekund na povrchu 4 mm2
  • Výjimečná rychlost – <100 ms při pohybu stolu 500 μm
  • Vytváření vzorů na celém povrchu podkladu o průměru 200 mm
  • Pokročilý systém redukce a kontroly mechanických vibrací (systém je v provozu v 6. patře Columbia University)
  • Interferometrický systém pro kontrolu polohy a vibrací stolku
  • Přesný systém měření výšky podkladu
  • Automatický podavač pro 6 substrátů

POKROČILÁ ELEKTRONIKA

  • 20bitový převodník DAC
  • Rychlost zápisu 55 MHz pomocí nízkošumové technologie Nanobeam
  • Blanking <5 ns
  • Elektronický šum <2 str./min
  • Kontrola dávky paprsku – rozlišení 0,5 Hz, průběžné řízení během procesu

NÍZKÉ POŘIZOVACÍ A PROVOZNÍ NÁKLADY

  • Nízké pořizovací náklady
  • Nízké náklady na výměnu elektronového děla
  • Nízké instalační požadavky – třída čistoty V
  • Vysoká odolnost vůči rozptylovému poli – < 600 nT
  • Vysoká odolnost vůči teplotním výkyvům – <0,3 °C
  • Spotřeba energie <3 kW
  • Odolnost proti poruchám periferních systémů (stlačený vzduch, elektrika)
  • Spolehlivost – více než 98% provozuschopnost při používání zařízení 24 hodin denně, 7 dní v týdnu
  • ZÁRUKA – 5 LET