Magnetronové naprašování MAGNION

Magnetronové systémy

Magnetronové systémy přizpůsobené individuálním požadavkům koncových uživatelů

Magnetronové SYSTÉMY MAGNION jsou systémy na klíč přizpůsobené individuálním požadavkům koncových uživatelů.

Patentované depoziční katody Plasmionique ze série MAGNION jsou navrženy pro vysokou účinnost spotřeby targetů a jsou dostupné jako vyvážené nebo nevyvážené, a to v kruhových nebo obdélníkových tvarech.

V závislosti na požadovaném zdroji mohou magnetrony pracovat v režimech DC, pulsed-DC, AC, HIPIMS nebo RF.

Systémy mohou být vybaveny dálkovým zdrojem plazmy PLUME pro reaktivní magnetronovou depozici nebo aktivaci substrátů.

Pokročilý držák substrátů umožňuje rotaci, vyhřívání, polarizaci nebo počítačem řízenou změnu naklonění vzorků.

MAGNETRONY

  • Kulaté 1‘‘, 2″, 3″, 4″ nebo obdélníkové targety
  • Provoz v režimech RF, DC, pulsed-DC, HIPIMS
  • Bariéry a komíny chránící proti křížové kontaminaci
  • Regulace uhlů a polohy magnetronů
  • Možnost společné depozice z několika magnetronů současně

SUBSTRÁTY

  • Držáky substrátů podle požadavků uživatele
  • Vyhřívání nad 850 °C
  • Chlazení
  • Rotace a regulace úhlů stolku
  • Polarizace RF nebo DC
  • Vkládaní substrátů přechodovou komorou load-lock
  • Integrace s rukavicovou komorou Glovebox

PROSTŘEDÍ PROCESU DEPOZICE

  • Komora z nerezové oceli o velikosti přizpůsobené požadavkům uživatele s možností připravení pro další rozšíření v budoucnu.
  • Možnost práce s kyslíkem nebo korozivními plyny.
  • Vakuové měrky: měrky širokého rozsahu a kapacitní měrka pro řízení procesního tlaku.
  • Pokročilý systém přívodů plynů a pár FLOCON včetně regulátorů hmotnostního toku. Možnost plné automatizace a programování příslušné směsi plynů.
  • Počet hmotnostních průtokoměrů s uzavíracími ventily podle požadavků zákazníka.
  • Proplach plynových přívodů a komory pro bezpečné otevření komory.
  • Možnost integrace krystalové měrky a optického emisního spektrometru.

OVLÁDACÍ SOFTWARE

  • Jednoduchý ovládací software
  • Plná grafická kontrola nad všemi komponenty systému
  • Monitorování a zaznamenávání podmínek procesu
  • Integrované signály krystalové měrky a emisního spektrometru
  • Pokročilé bezpečnostní systémy
  • Možnost ukládání receptů
  • Možnost definice vlastních procedur uživatele
  • https://is.muni.cz/th/211910/prif_b/?lang=en