atomic layer deposition osadzanie warstw atomowych

P-300BV

Průmyslový ALD reaktor

Průmyslový ALD reaktor pro výrobu LED, MEMS, senzorů

Systém PICOSUN® P-300BV ALD je speciálně navržen pro výrobu LED, MEMS a senzorů

HLAVNÍ VLASTNOSTI:

  • Unikátní řešení zajišťující nejvyšší čistotu procesu a uniformitu vrstev
  • Nezávislé přívody prekurzorů do komory
  • Univerzální komora pro všechny typy substrátů
  • Rovnoměrná teplota v celém objemu reakční komory
  • Jednoduché ovládání pomocí počítače s dotykovou obrazovkou

TYPICKÉ PODKLADY:

(Depozice na všech typech substrátů v jedné univerzální reakční komoře)

  • Podklady 200 mm v šaržích 25 kusů
  • Podklady 150 mm v šaržích 50 kusů
  • Podklady 100 mm v šaržích 75 kusů
  • Podklady 3D – speciálně připravené drážky
  • Porézní, skrz-porézní substráty a substráty s vysokým HAR (až 1:2500)

TEPLOTA PROCESU

50 – 450 °C

TYPICKÉ PROCESY

  • Výrobní průmyslové procesy
  • Ne-uniformita vrstev mezi podklady v šarži 1% 1σ (Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49 bodu, 5mm EE)
  • Oxidy: Al2O3, TiO2, SiO2, Ta205, HfO2, ZnO, ZrO2
  • Nitridy: TiN, AlN
  • Kovy: Pt, Ir, Ru

VKLÁDANÍ SUBSTRÁTU

  • Poloautomatické lineární vkládaní substrátů
  • Moznost kontrolovaného výhřevu substrátů v přechodové komoře

PREKURZORY

  • Do 8 zdrojů prekurzorů (tekuté, plynné, pevné, ozon)
  • 4 nezávislé přívody do komory
  • Senzory objemu prekurzorů