P-1000

Průmyslový ALD reaktor

Průmyslový ALD reaktor pro velké podklady 3D

Systém PICOSUN® P-1000 ALD je speciálně navržen pro povlakování různých 3D podkladů, mechanických částí strojů, skla, plechu, hodinek, šperků, čoček a jiných.

HLAVNÍ VLASTNOSTI:

  • Unikátní řešení zajišťující nejvyšší čistotu procesu a uniformitu vrstev
  • Nezávislé přívody prekurzorů do komory
  • Univerzální komora pro všechny typy substrátů
  • Rovnoměrná teplota v celém objemu reakční komory

TYPICKÉ PODKLADY:

  • Různé podklady 3D

TEPLOTA PROCESU

50 – 400 °C

TYPICKÉ PROCESY

  • Výrobní průmyslové procesy
  • Oxidy: Al2O3, TiO2, ZnO

VKLÁDANÍ SUBSTRÁTŮ

  • Vkládaní substrátů pomocí např. zdvižného vozíku

PREKURZORY

  • Do 10 zdrojů prekurzorů
  • 6 nezávislých přívodů do komory